Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: http://hdl.handle.net/2067/32723
Titolo: Effect of Thermal Annealing on the Electronic Properties of Nitrogen Doped Amorphous Carbon/p-Type Crystalline Silicon Heterojunction Diodes
Autori: Valentini Luca
Lozzi, L.
Salerni, V.
Armentano, Ilaria 
Kenny Jose Maria
Santucci, S.
Rivista: JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY. A. VACUUM, SURFACES, AND FILMS 
Data pubblicazione: 2003
URI: http://hdl.handle.net/2067/32723
DOI: 10.1116/1.1562477
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